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期刊论文
硅中氧氮扩散研究进展
硅中氧氮扩散研究进展
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cs19890126
【摘 要】
:
着重探讨了氧的低温异常扩散现象,研究了氮在高温下扩散速率、扩散机理方面的进展,并对上前存在的一些尚未解决的问题进行了讨论。
【作 者】
:
税琼
樊瑞新
【机 构】
:
浙江大学硅材料国家重点实验室
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1999年6期
【关键词】
:
扩散
杂质
硅
DiffusionImpuritySilicon
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着重探讨了氧的低温异常扩散现象,研究了氮在高温下扩散速率、扩散机理方面的进展,并对上前存在的一些尚未解决的问题进行了讨论。
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