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简介了现有金属掩膜法制备纳米多层膜的过程,指出采用定位图形套准模板存在的弊端,研制出采用定位框固定基片、套准模板的制备新方法及装置.试验表明,采用该方法可显著提高制备纳米多层膜的完好率及套准精度.
用于制备纳米多层膜的金属掩膜法的研究
【摘 要】
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简介了现有金属掩膜法制备纳米多层膜的过程,指出采用定位图形套准模板存在的弊端,研制出采用定位框固定基片、套准模板的制备新方法及装置.试验表明,采用该方法可显著提高制
【机 构】
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天津理工学院
【出 处】
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兵器材料科学与工程
【发表日期】
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2004年3期
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