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在室温下以c—C4F8为反应气体，采用电感耦合等离子体化学气相淀积（ICP-CVD）法制备出碳氟聚合物薄膜，研究了工艺条件与薄膜的光、电性能和结构与疏水性的相关性。结果表明，薄膜结构均匀致密，主要由C-CFx、CF、CF2和CF3组成；当射频功率为400W，c—C4F8的流量为40sccm时，制备出的薄膜和去离子水之间的接触角高达112°。