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期刊论文
MOS器件的X射线辐照效应
MOS器件的X射线辐照效应
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:syhlgs
【摘 要】
:
研究了在10 keV X射线辐照情况下,MOS器件的阈值电压随总剂量和剂量率的改变而变化的趋势.实验结果表明,辐照后,与用Co60作为辐射源辐照所做实验结果明显不同的是,NMOS器件的
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
MOS器件
辐照
剂量率
总剂量
X射线
【基金项目】
:
国家重点实验室基金
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研究了在10 keV X射线辐照情况下,MOS器件的阈值电压随总剂量和剂量率的改变而变化的趋势.实验结果表明,辐照后,与用Co60作为辐射源辐照所做实验结果明显不同的是,NMOS器件的阈值电压漂移幅度远大于PMOS器件的漂移幅度.文中对这种现象进行了讨论.
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