【摘 要】
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为了探索电弧离子镀技术制备银薄膜中相关的工艺参数，利用直流磁过滤电弧源在K9玻璃和硅片上制备了银膜，通过白光干涉仪和剥离实验对所制备银膜的厚度、表面粗糙度和附着力进行
【基金项目】
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陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室项目（2010JS001）
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为了探索电弧离子镀技术制备银薄膜中相关的工艺参数，利用直流磁过滤电弧源在K9玻璃和硅片上制备了银膜，通过白光干涉仪和剥离实验对所制备银膜的厚度、表面粗糙度和附着力进行检测，分析靶电流、基片偏压和过渡层对银薄膜沉积速率、粗糙度及附着力等特性的影响．实验结果表明：当靶电流为90．0A时，沉积速率为1．84nm／s，在偏压为＋10V时，得到膜层粗糙度为0．5355nm；利用过渡层的辅助，通过电弧离子镀有效地提高了银膜的附着力．
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