【摘 要】
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Novellus系统公司与全球研发代工厂ATDF合作,将为整个半导体工业的设备和材料供应商提供下一代多孔隙低价电系数晶圆。这种采用具有2.5介电常数(k)的Novellus的CORAL ULK薄膜
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Novellus系统公司与全球研发代工厂ATDF合作,将为整个半导体工业的设备和材料供应商提供下一代多孔隙低价电系数晶圆。这种采用具有2.5介电常数(k)的Novellus的CORAL ULK薄膜的先进测试晶圆,使用了Novellus的等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备,并用Novellus的SOLA紫外热处理设
Novellus Systems, in partnership with ATDF, a global research and development foundry, will supply the next generation of multi-voids low-cost wafers for equipment and materials suppliers throughout the semiconductor industry. This advanced test wafer using Novellus ’CORAL ULK film with a 2.5 Dielectric Constant (k) uses Novellus’s PECVD device and uses Novellus’ SOLA UV heat treatment set
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