【摘 要】
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We have been developing debris-free laser plasma sources for EUV lithography since 1996. Two types of debris-free sources, such as cryogenic target and gas-puff
【机 构】
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StateKeyLaboratoryofAppliedOptics
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We have been developing debris-free laser plasma sources for EUV lithography since 1996. Two types of debris-free sources, such as cryogenic target and gas-puff target laser plasma sources, were designed and built up in CIOMP. EUV radiation spectra of the
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