EUV相关论文
This paper introduces the recent progress in methodologies and their related applications based on the soft x-ray interf......
Line identification of extreme ultraviolet (EUV) spectra from low-Z impurity ions in EAST tokamak pl
Extreme ultraviolet(EUV) spectra emitted from low-Z impurity ions in the wavelength range of10–500Å were observed in E......
一台设备被设计并且集合了分析分子的玻璃(MG ) 除去在极端下面的光致抗蚀剂紫外(EUV ) 暴露。与不同部件和 tert-butoxycarbonyl ......
In this paper we have reviewed our achievements in soft X-ray and extreme ultraviolet (EUV) optics. Up to now, the resea......
<正>Gravity is everywhere in the universe[1,2],and the same is true of the magnetic field[3-5].Similar to gravity,magnet......
IMEC宣布,成功利用ASML的EUV(extremeultraviolet)曝光装置NXE:3100进行曝光。该EUV曝光装置配备了日本牛尾电机的全资子公司德国X......
在最近召开的SPIE高级光刻技术会议上,Intel公司称EUV光刻技术应用到大批量生产的时间点将会迟于Intel推出14 nm制程产品的时间点,......
开发了用于实验室的ＥＵＶ（５０～７０ｅＶ）波段的Ｆａｒａｄａｙ 旋光测量装置。其中光源采用了激光等离子体光源。起偏器和检偏器均采用了入射角为准Ｂｒｅｗ ｓｔｅｒ角的反射式Ａｌ／ＹＢ６多层膜......
地球等离子体层位于地球电离层以上,延伸至4~6地球半径范围的环状等离子体区域,它在空间分布上与地球辐射带、环电流区域重合,是地......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
IBM率先造出首款2nm芯片,比台积电还快,谁将受益?与IBM一样涉足2nm芯片研究的,就是台积电,台积电占据着代工厂老大哥位置,一手研究......
Using the observational data of the solar radio spectrometer with a broad bandwidth of the Chinese National Astronomical......
以McPHERSON 247型掠入射软X射线-真空紫外单色仪配合5900 Magnum通道电子倍增器,测量了Fe靶在高真空环境下的纳秒激光等离子体25～6......
The demand to enhance the optical resolution, to structure and observe ever smaller details, has pushed the way towards ......
Photoresists are radiation-sensitive materials used for forming patterns to build up IC devices.To date,most photoresist......
In EUV and X-ray regions, multilayer mirrors are the essential and necessary optics elements. The good prospects of the ......
简要阐述了强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法。这种膜系是由强吸收材料叠加而成，每层膜光学厚度小于四分之一个波长。与常......
衍射效率的高低是衡量极紫外多层膜光栅的最重要指标。为实现高衍射效率,必须发展合适的多层膜沉积方法,以确保在镀膜过程中光栅衬......
We report the measurement of total molybdenum ion density for L-mode and H-mode plasmas on EAST using spectral lines obs......
观测光谱是研究天体的基础资料，对这些光谱的理解主要依靠理论模型。由于各模型依赖于众多的基本原子参数，且不同的模型对同一特定对......
当前半导体器件加工水平正在向22 nm方向发展,而最有希望实现这一尺寸的光刻技术即为EUV光刻技术。EUV光源所发出的13.5 nm辐射因......
苹果新的iPhone发布了,与这两年的情况一样,由于剧透和友商看似在硬件配置上的领先,i Phone11系列一经发布,立马引来了诸多业内人......
近日,台积电(TSMC)推出了7nm深紫外DUV(N7)和5nm极紫外EUV(N5)制造工艺的性能增强版本。台积电全新N7P工艺采用与N7相同的设计规则......
英特尔公司正投大量精力用于远紫外线(EUV)光刻技术(用于制造未来微处理器的技术)开发，现在已经在EUV技术上取得两项重要成果里程碑......
对于极紫外（EUV）光刻技术而言，掩膜版相关的一系列问题是其发展道路上必须跨越的鸿沟．而在这些之中又以如何解决掩膜版表面多层抗反射......
对于前沿领域，极紫外线（EUV）光刻胶技术的研究要有助于解决一些由于193nm光刻技术不断向下延伸而面临的问题。......
一、简介光刻技术(Lithgraphy)被广泛运用于当今半导体制程中.光刻技术可以用近紫外光(Near UltraViolet,NUV)、中紫外光(Mid UV,M......
月基极紫外相机用于月球表面对地球等离子体层辐射出的30.4nm谱线进行成像观测,多层膜反射镜是月基极紫外相机的重要光学元件。根......
利用太阳射电宽带频谱仪(0.7-7.6 GHz)于2001年10月19日观测到的复杂太阳射电大爆发,呈现出许多有趣的特征.结合NoRH(Nobeyama Rad......
为第一基于月亮的极端的开发和刻度的进程紫外(EUV ) 观察到地球的 plasmasphere 被介绍的照相机和设计，测试和刻度结果被介绍。EUV......
Propagating disturbances along a coronal loop from simultaneous EUV imaging and spectroscopic observ
宣传骚乱(PD ) 用同时的成像和光谱学沿着一个活跃区域环被学习。一个图象序列在 Fe IX/Fe X 171 记录了吗？隧道，从踪迹并且光谱在 S......
EUV 气旋正在旋转在太阳的日冕组织，并且他们在在光球的内在的旋转网络磁场通常是生根的。然而，他们有包围磁场的连接仍然保持未知。......
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To develop beam splitters for soft X-ray laser Michelson interferometer at 13.9 nm, Mo/Si multilayers of 100 nm thicknes......
KLA—Tencor公司近日推出了PROLITHTM12，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员......
由于超紫外线光刻技术（extreme ultraviolet，EUV）的发展迟缓，Intel透露正在开发一种可能将光学扫描仪扩展到22nm制造节点的可制造性设......
据EE Times网站报道：Sematech宣布使用极紫外（EUV）光刻技术获得了22nm的半节距分辨率。同时还成功获得了20nm以下的特征尺寸。Sematec......
全球最大半导体微显影设备业者ASML表示：目前客户订单增加相当多，但主是来自半导体业者制程微缩而非产能扩充的需求，半导体业者仍持续......
