【摘 要】
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光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备,是集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体,各种尖端交叉融合的复杂大系统产物,它的研发
【机 构】
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光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备,是集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体,各种尖端交叉融合的复杂大系统产物,它的研发过程及研发成果对集成电路产业和信息产业的发展具有极大地技术带动作用.其中掩膜—硅片对准是光刻机三大核心技术之一,对光刻机对准技术的专利申请情况作出了分析,介绍了光刻机对准技术的专利申请的分布特点.
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