论文部分内容阅读
本文针对一种研磨抛光机进行供液系统的设计与研究。通过给回流抛光液供动力，使抛光液在回流到抛光液器中把抛光液中的沉淀物搅拌起来，达到回流抛光液自搅拌的效果。并通过可调压无阀门缓冲装置把抛光液经过一次冲刷缓冲，实现抛光液的在缓冲筒搅拌并通过简单调节进行供液速度调控。通过本供液系统的设计可高抛光液混合的均匀性，对抛光质量与效率起到一定的作用。