用分子束外延生长高质量p-Ge/N-GaAs异质结

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shengli1011
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Ge具有较高的空穴迁移率和较小的禁带宽度,并能进行重掺杂,且Ge与GaAs之间有非常好的晶格匹配.这些优点可应用于空穴调制掺杂结构、GaAs-Ge量子限制结构、光晶体管和异质结双极晶体管. Ge has a higher hole mobility and a smaller bandgap, can be heavily doped, and has a very good lattice match between Ge and GaAs These advantages can be applied to hole-doped doping structures, GaAs-Ge quantum confinement structure, phototransistor and heterojunction bipolar transistor.
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