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用透射电镜和X光衍射仪揭示了用PCVD法涂层TiN的物相及超细晶粒、位错、孪晶、择优取向等微观结构,并对该涂层的性能进行了比较试验。
等离子化学气相沉积（PCVD）TiN涂层的组织与性能研究
【摘 要】
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用透射电镜和X光衍射仪揭示了用PCVD法涂层TiN的物相及超细晶粒、位错、孪晶、择优取向等微观结构,并对该涂层的性能进行了比较试验。
【机 构】
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西南交通大学
【出 处】
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金属热处理
【发表日期】
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1991年3期
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