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针对RZJ-304（25mp．s）型正性光刻胶，对芯层为PMMA的光波导材料，研究接触式光刻机提高光刻分辨率的方法。分别采用不同的曝光强度和曝光时间来改变曝光量，研究其对光刻图形宽度的影响；并通过改变曝光后烘焙（PEB）的温度和时间以及采用不同的显影时间，研究了其对光刻图形宽度的影响，从而得出优化的光刻工艺参数。