磁控溅射氮分压对Nb-Si-N薄膜结构和性能的影响

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yangxfg

【摘要】

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用反应磁控溅射法在不同的氮分压下沉积了Nb-Si-N薄膜.结果表明：Nb-Si-N膜的成分、结构和性能随氮分压的改变而不同.随氮分压的增加,Nb-Si-N膜的Nb/Si比和表面粗糙度减小;薄膜

【作者】

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王剑锋宋忠孝徐可为范多旺

【机构】

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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室

【出处】

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稀有金属材料与工程

【发表日期】

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2006年6期

【关键词】

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磁控溅射 Nb-Si-N 氮分压结构 magnetron sputtering Nb-Si-N N2 partial pressure microstr

【基金项目】

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国家重点基础研究发展计划“973”项目（004CB619302）,国家自然科学基金（NSFC）（50471035）,光电技术与智能控制教育部重点实验室（兰州交通大学）开放基金资助项目（K040119）

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用反应磁控溅射法在不同的氮分压下沉积了Nb-Si-N薄膜.结果表明：Nb-Si-N膜的成分、结构和性能随氮分压的改变而不同.随氮分压的增加,Nb-Si-N膜的Nb/Si比和表面粗糙度减小;薄膜的电阻值和微硬度增加.Nb-Si-N膜的结构为纳米晶NbN与类似Si3N4非晶相组成的纳米复合结构,且随着氮分压的增加,Nb-Si-N膜的非晶倾向增强,晶粒尺寸减小.

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