磁场对电解抛光作用计算机模拟分析

来源 :哈尔滨理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：caozhi7963

【摘要】

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通过实验很难观测到磁场对电解抛光的微观作用,因此参照带电粒子在磁场中运动的作用机理,建立起电解抛光时电磁场作用下的带电粒子运动模型.同时采用三维图形标准OpenGL,在VC

【作者】

：

王俊陈玉全孙伟岩时立民关砚聪

【机构】

：

哈尔滨理工大学机械动力工程学院

【出处】

：

哈尔滨理工大学学报

【发表日期】

：

2002年4期

【关键词】

：

计算机模拟电解抛光磁场带电粒子运动模型机械加工 electrolysis polishing magnetic field simulation an

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通过实验很难观测到磁场对电解抛光的微观作用,因此参照带电粒子在磁场中运动的作用机理,建立起电解抛光时电磁场作用下的带电粒子运动模型.同时采用三维图形标准OpenGL,在VC++的编程环境下,根据建立的运动模型对带电粒子运动轨迹进行模拟分析,证明了磁场可加速带电粒子的扩散和迁移,从而提高了电解抛光加工效率和加工质量

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