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应用深能级瞬态谱(DLTS)技术,对不同热处理条件下的单晶硅腐蚀片及抛光片进行了Fe玷污分析,系统研究了热处理前预清洗工艺和热处理工艺过程对硅片体内Fe玷污的影响.实验表明,热处理和热处理前预清洗是加工过程中对硅片体内Fe玷污有重大影响的工序,进而提出了有效降低硅片内Fe玷污的热处理控制方法.
热处理单晶硅片中Fe玷污的深能级瞬态谱分析
【摘 要】
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应用深能级瞬态谱(DLTS)技术,对不同热处理条件下的单晶硅腐蚀片及抛光片进行了Fe玷污分析,系统研究了热处理前预清洗工艺和热处理工艺过程对硅片体内Fe玷污的影响.实验表明,
【机 构】
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麦斯克电子材料有限公司,郑州大学物理系和材料物理重点实验室
【出 处】
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科学技术与工程
【发表日期】
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2003年3期
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