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用磁控溅射和后期退火的方法，首次制成了完全取向的Ｄ相准晶薄膜。这种薄膜对准晶的基础研究和应用研究都有重要意义。
制成完全取向的D相准晶薄膜
【摘 要】
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用磁控溅射和后期退火的方法，首次制成了完全取向的Ｄ相准晶薄膜。这种薄膜对准晶的基础研究和应用研究都有重要意义。
【机 构】
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中国科学院物理研究所,中国科学院凝聚态物理中心
【出 处】
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物理
【发表日期】
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1997年11期
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