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期刊论文
MOS C—V技术在集成电路生产中的应用
MOS C—V技术在集成电路生产中的应用
来源 :中国集成电路 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cnyy20
【摘 要】
:
本文介绍了Si-SiO<sub>2</sub>结构特性与MOS晶体管和集成电路性能参数之间的关系。阐明在集成电路生产过程中MOS C—V技术应用的重要性。举例说明了C—V技术在工艺在线监控
【作 者】
:
陈永珍
【机 构】
:
无锡华晶上华半导体有限公司
【出 处】
:
中国集成电路
【发表日期】
:
2002年9期
【关键词】
:
集成电路生产
晶体管参数
少子产生寿命
可动离子
性能参数
测试系统
开发研究
在线监控
测试结果
结构特性
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本文介绍了Si-SiO<sub>2</sub>结构特性与MOS晶体管和集成电路性能参数之间的关系。阐明在集成电路生产过程中MOS C—V技术应用的重要性。举例说明了C—V技术在工艺在线监控、工艺质量评定、集成电路产品片参数异常分析及集成电路的开发研究中的应用。
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