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OMR—85光刻胶的研究与应用
OMR—85光刻胶的研究与应用
来源 :微电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fspdgx
【摘 要】
:
在半导体制造中,光刻胶是重要的原材料之一.本文从转速与膜厚、感光灵敏度、图形变化差等方面对ORM-85光刻胶进行了研究,得出了用于大生产的一套工艺.解决了接触式曝光方式粘
【作 者】
:
章文红
【机 构】
:
无锡华晶微电子股份有限公司
【出 处】
:
微电子技术
【发表日期】
:
2002年3期
【关键词】
:
光刻胶
感光灵敏度
图形变换差
接触式曝光
PhtotresistSensitivityLinearityContact exposure
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在半导体制造中,光刻胶是重要的原材料之一.本文从转速与膜厚、感光灵敏度、图形变化差等方面对ORM-85光刻胶进行了研究,得出了用于大生产的一套工艺.解决了接触式曝光方式粘版的问题及提高了产能.
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