PLD制备铁电薄膜工艺参数的研究现状

来源 :红外与激光工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：feiniao6688

【摘要】

：

铁电薄膜在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用(前景).脉冲激光沉积(PLD)在铁电薄膜制备方面显示出独特的优越性.介绍了PLD的原理、特点;综

【作者】

：

赵亚凡陈传忠宋明大

【机构】

：

山东建筑大学,理学院,山东,济南,250014;山东大学,材料科学与工程学院,山东,济南,250061;山东大学,机械工程学院,山东,济南,250061

【出处】

：

红外与激光工程

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

脉冲激光沉积铁电薄膜工艺参数

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铁电薄膜在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用(前景).脉冲激光沉积(PLD)在铁电薄膜制备方面显示出独特的优越性.介绍了PLD的原理、特点;综述了PLD工艺参数,包括衬底温度、氧气压力、靶材结构与成分、能量密度、靶基距离、缓冲膜以及退火工艺等的研究现状;展望了PLD制备铁电薄膜的应用前景.

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