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用微波等离子化学气相沉积方法（ＣＶＤ片）用丙酮－氢气混合气体作为原料，在单晶硅的（１１１）面和人造单晶金刚石的（１００）面上，生长出了优质金刚石薄膜，并对薄膜的生长规律进行了研究。
微波CVD法合成金刚石薄膜的生长规律
【摘 要】
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用微波等离子化学气相沉积方法（ＣＶＤ片）用丙酮－氢气混合气体作为原料，在单晶硅的（１１１）面和人造单晶金刚石的（１００）面上，生长出了优质金刚石薄膜，并对薄膜的生长规律进行了研究。
【机 构】
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郑州纺织工学院基础部,甘肃酒泉教育学院教务处
【出 处】
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兰州大学学报：自然科学版
【发表日期】
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2000年3期
【基金项目】
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国家 8 6 3计划!(715- 0 3- 0 1- 0 9)资助项目
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