电化学氟化提高TiO2薄膜光电催化性能

来源 :高校化学工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:guigui1998
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为了提高二氧化钛(TiO2)薄膜光电性能,采用电化学氟化制备氟化二氧化钛薄膜(F-TiO2),优化电压、时间、氟离子浓度对F-TiO2光电性能的影响,考察F-TiO2薄膜光电催化As(Ⅲ)和苯酚的性能,并测试F-TiO2薄膜光吸收性质,F-TiO2在400℃焙烧后光电流以及TiO2薄膜电极在含氟水溶液中光电流,分析F-TiO2光电催化性能提高的原因。结果表明:最佳氟化条件为10 V、5 min、0.5%NaF;在0.8 V,N2条件下,F-TiO2稳态光电流提高约2.6倍;在0.8V,空气条件下,光电催化
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