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期刊论文
磁流变抛光(MRF)装置专利技术分析
磁流变抛光(MRF)装置专利技术分析
来源 :科技创新与应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:play11200
【摘 要】
:
文章基于 CNABS 和 DWPI 数据库, 通过检索、 筛选、统计和分析国内外有关磁流变抛光装置的专利申请, 梳理了磁流变抛光装置领域的技术发展脉络,对各主要技术分支的申请年度
【作 者】
:
吕文权
周旭娇
张伟
【机 构】
:
国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心
【出 处】
:
科技创新与应用
【发表日期】
:
2018年8期
【关键词】
:
磁流变抛光装置
专利技术
分析
magnetorheological polishing device
patent technology
analysis
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文章基于 CNABS 和 DWPI 数据库, 通过检索、 筛选、统计和分析国内外有关磁流变抛光装置的专利申请, 梳理了磁流变抛光装置领域的技术发展脉络,对各主要技术分支的申请年度、 申请量、 地域分布进行统计, 同时对磁流变抛光装置领域的重要申请人进行分析.
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