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针对分步式压印光刻工艺超高精度对准及空间位姿调整要求,论述了一套由弹簧导轨承片台结构、驱动器及激光干涉仪构成的超高精度对准定位系统。为了消除由于压印力引起承片台空间位姿的变化,系统采用宏微两级驱动和优化的压印工艺实现承片台超高精度定位和空间位姿的调整;最终实现在压印光刻工艺中,定位精度小于20nm,空间位姿调整旋转量达到±10s。