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在铜片表面制备了Ni-Co-Y2O3复合镀层。采用线性扫描伏安法、计时电流法和交流阻抗法等电化学方法研究了Ni-Co-Y2O3复合镀层的电化学行为;采用X射线衍射仪分析了Ni-Co-Y2O3复合镀层的相结构;采用扫描电镜观察了Ni-Co-Y2O3复合镀层的表面形貌和截面形貌。结果表明:Ni-Co-Y2O3复合镀层的起始沉积电位为-0.80 V,并且成核遵循Scharifker-Hill瞬时成核模型;达到沉积电位时,EIS曲线由完整的高频容抗弧和低频感抗弧组成;Ni-Co-Y2O3复合镀层表面的晶粒较为致密