射频磁控溅射制备CuAlO_2薄膜及性能表征

来源 :安徽大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：yulequ

【摘要】

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利用Al（OH）3和Cu2O高温固相反应烧结制备的靶材,采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备非晶CuAlO2薄膜.薄膜的表面均匀,颗粒大小约为50 nm,可见光范围内透射率为60%,平均折射率

【作者】

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孙兆奇汪娴李俊磊朱煜东宋学萍

【机构】

：

安徽大学物理与材料科学学院

【出处】

：

安徽大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2012年3期

【关键词】

：

CuAlO2薄膜磁控溅射浸润性 CuAlO2 film RF magnetron sputtering wetting property

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利用Al（OH）3和Cu2O高温固相反应烧结制备的靶材,采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备非晶CuAlO2薄膜.薄膜的表面均匀,颗粒大小约为50 nm,可见光范围内透射率为60%,平均折射率达2.0,直接带隙为3.86 eV.随着在紫外光源下曝光时间的增加,薄膜的接触角从96.3°减小到87.5°,薄膜仍呈现出良好的疏水性.

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