集成光学工艺:一种EDTA腐蚀溶液的使用

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本文报导了LiNbO_3波导元件制造中一个具有重要意义的新工艺方法。EDTA溶液和光掩膜结合起来用于刻蚀钛以形成新的波导结构。它使传输常数和光模式分布能局部控制。讨论了几个应用实例。 This paper reports an important new process in the fabrication of LiNbO_3 waveguide components. The EDTA solution and the photomask are combined to etch titanium to form a new waveguide structure. It allows local control of transmission constants and light pattern distribution. Several application examples are discussed.
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