磁控溅射氧分压对阻变单元阻变性能的影响研究

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二元金属氧化物中形成导电丝的缺陷主要包括位错、晶粒间界、空位等,在外电场作用下氧空位可以很容易沿着缺陷迁移,被认为是影响阻变存储性能最关键的因素之一.而氧空位的密度可以通过溅射制备阻变功能薄膜的氧分压来控制.本文在不同氧分压下磁控溅射制备TaOx薄膜,研究了磁控溅射氧分压对阻变单元阻变性能的影响.
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