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<正> 半导体产业界的研究机构,International Sematech,(位于美国德克萨斯州的Austin)利用从一个6W氟激光光源获得的175nm紫外线,进行了光刻实验。结果显示0.07微米以上线条的光刻工艺技术,已经有了明确的道路可循。该机构装配了一台微步进重复机,可以在157um光源下工作,并且经过实验证明它能正常运行。