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STM的刻蚀机理是通过隧道电流引发局域化学反应,以达到刻蚀的目的,在刻蚀过程中,偏压值对针尖状态的影响相当大,本文以STM为手段,研究偏压值对高序石墨表面纳米刻蚀及针尖状态的影响,通过一系列改变偏压值的纳米刻蚀试验,结果表明,在偏压值为4000mV不但刻蚀图像明显,而且对针尖状态的影响较少.