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由Apple Ⅱ微机控制的探孔场发射显微镜系统已研制成功,并可用其测量单个晶面的逸出功。被探测微区的探孔电流由探测荧光屏,光电倍增管和电流放大器的联合体进行测量。观察屏电压(阳极电压)由D/A转换器调节。场发射体总电流和探孔电流数据由A/D转换器采集。测量系统校准后,用BASIC语言编写的程序处理所测得的数据和计算Fowler-Nordheim图参数,从而得到被测的单个晶面的逸出功。用此系统已测得清洁的W(100)和W(111)面逸出功分别为4.67eV和4.45eV。