【摘 要】
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ＬＩＧＡ加工中关键技术之一是深度Ｘ射线光刻，它需要性能优越的Ｘ射线源，现在普遍使用的是同步辐射加速器，但其造价十分昂贵，运行也十分复杂。本文试图利用结构简单、运行方便、效率较高和造
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ＬＩＧＡ加工中关键技术之一是深度Ｘ射线光刻，它需要性能优越的Ｘ射线源，现在普遍使用的是同步辐射加速器，但其造价十分昂贵，运行也十分复杂。本文试图利用结构简单、运行方便、效率较高和造价很低的喷气式Ｚ箍缩脉冲等离子体软Ｘ射线源，进行ＬＩＧＡ加工的探讨，由于此Ｘ射线源为点源而非平行光，而且强度也相对较小，所以本文对点源Ｘ射线在曝光中的影响作了估计，同时对一定深度光刻所需放电次数进行了计算。结果表明：当Ｘ射线源离掩膜距离合适、抗蚀剂灵敏度较高时，进行几十微米深的光刻是可能的。
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