【摘 要】
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在磁控溅射系统阴极靶施加同轴可调约束磁场显著改善了系统放电特性.研究了在Ar气放电系统伏安特性随不同的气压、溅射电压变化规律.采用同轴平面探针诊断距阴极60 mm、110 m
【机 构】
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大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室
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在磁控溅射系统阴极靶施加同轴可调约束磁场显著改善了系统放电特性.研究了在Ar气放电系统伏安特性随不同的气压、溅射电压变化规律.采用同轴平面探针诊断距阴极60 mm、110 mm和230 mm三个不同位置收集电流密度,负偏压150 V.实验结果表明存在不同的开放约束磁场和气压下放电特性符合I∝V n(n≈1.2～1.5),开放约束磁场降低了系统的放电电压,增强了等离子体的引出效果,提高了系统在较低真空度的放电稳定性.轴向开放约束磁场显著提高了收集电流密度,离子收集通量在距阴极230 mm的位置达到9.5 m
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