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为了解决半导体晶片的凹槽、深孔等不规则表面均匀喷胶的工艺问题,运用微流量供胶泵配合超声波发生器组合,通过超声波对液体雾化后,应用微步进马达驱动活塞上下运动,进行同步吸胶吐胶,并保证对进给量的高精度控制,使储存胶液的缓冲活塞缸进液和出液完全独立且互补,实现了涂覆均匀的工艺目标。
高精度微流量供胶泵原理及应用
【摘 要】
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为了解决半导体晶片的凹槽、深孔等不规则表面均匀喷胶的工艺问题,运用微流量供胶泵配合超声波发生器组合,通过超声波对液体雾化后,应用微步进马达驱动活塞上下运动,进行同步
【机 构】
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沈阳芯源微电子设备有限公司
【出 处】
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装备制造技术
【发表日期】
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2010年9期
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