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本文采用射频磁控溅射技术,在高温下制备了原位退火的钴酸锂薄膜,并研究了溅射功率对其性能的影响。结果表明,随着溅射功率的增加,钴酸锂薄膜结晶颗粒长大,生长速率增加,首次放电比容量增大且循环性能提升。200W溅射制备的钴酸锂薄膜首次放电比容量可达47μAh·cm-2μm-1,并表现出较好的循环性能。