【摘 要】
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利用聚焦磁光克尔效应(MOKE)研究了不同形状单元组成的坡莫合金图形化阵列的单个单元磁化过程,研究发现单元的形状对单元磁性有很大影响,主要是单元的退磁场和形状有很大关联。
【机 构】
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东南大学物理系,DepartmentofElectronics,海南师范大学物理与电子工程学院,南京大学电子科学与工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金(50171029,11364015), 江苏省自然科学基金(BK20141328), 海南省自然科学基金(114008)资助
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利用聚焦磁光克尔效应(MOKE)研究了不同形状单元组成的坡莫合金图形化阵列的单个单元磁化过程,研究发现单元的形状对单元磁性有很大影响,主要是单元的退磁场和形状有很大关联。研究还发现矩形阵列单个单元的磁滞回线不但与其矩形比有关,与单元间隔和在阵列中的阵列位置也有关。矩形单元易磁化方向沿着其长边方向,而短边方向为难磁化方向,其形状磁各向异性随矩形比而增大。当阵列单元之间的间隔大于单元尺寸时,在阵列中单元的位置对磁性影响相对较少,基本与单个单元的磁性相同。当单元之间的间隔接近单元尺寸时,不同位置的单元的磁性表现
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