【摘 要】
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目的在氨基磺酸盐电镀体系中,探索出各电镀工艺参数对镀层内应力的影响规律。方法采用一种改良的双阳极-阴极弯曲的办法测试镀层应力。通过X射线衍射实验(XRD)、扫描电子显微
【机 构】
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盛利维尔（中国）新材料技术有限公司,上海理工大学材料科学与工程学院,东南大学材料科学与工程学院
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目的在氨基磺酸盐电镀体系中,探索出各电镀工艺参数对镀层内应力的影响规律。方法采用一种改良的双阳极-阴极弯曲的办法测试镀层应力。通过X射线衍射实验(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)以及KEYENCE数码显微系统,分别分析应力状态下镀层织构、微观畸变以及镀层形貌。结果电流密度越大,镀层的张应力越大,当电流密度达到15 A/dm2时,继续增加电流密度,镀层张应力值不变。电镀时间越长,镀层越厚,张应力值越大,电镀15 min后,镀层应力保持不变。Cl‒浓度越高,镀层的张应力值越大。电流密度对张应力的影响程度比电
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