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铜线键合技术近年来发展迅速,超细间距引线键合是目前铜线键合的主要发展趋势。介绍了铜线键合的防氧化措施以及键合参数的优化,并从IMC生长及焊盘铝挤出方面阐述了铜线键合的可靠性机理。针对铜线在超细间距引线键合中面临的问题,介绍了可解决这些问题的镀钯铜线的性能,并阐述了铜线的成弧能力及面临的挑战。
铜线键合技术的发展与挑战
【摘 要】
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铜线键合技术近年来发展迅速,超细间距引线键合是目前铜线键合的主要发展趋势。介绍了铜线键合的防氧化措施以及键合参数的优化,并从IMC生长及焊盘铝挤出方面阐述了铜线键合
【机 构】
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南通大学江苏省专用集成电路设计重点实验室,南通富士通微电子股份有限公司
【出 处】
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电子元件与材料
【发表日期】
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2011年08期
【基金项目】
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江苏省高校自然科学重大基础研究资助项目(No.10KJA40043;No.08KJA510002);南通大学自然科学研究资助项目(No.09Z051;No.09R23;No.2010K121);南通市应用研究资助项目(No.K2008024);国家科技重大专项“02专项”资助项目(No.2009ZX02024-003);2010年江苏省企业博士集聚计划资助项目
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