【摘 要】
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目的改善抛光轨迹以获得更好的加工精度。方法分析计算机控制抛光中常使用的阿基米德螺旋线轨迹,发现使用该方法加工回转曲面时,由于投影行距变化,导致轨迹间去除区域的接触
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目的改善抛光轨迹以获得更好的加工精度。方法分析计算机控制抛光中常使用的阿基米德螺旋线轨迹,发现使用该方法加工回转曲面时,由于投影行距变化,导致轨迹间去除区域的接触情况变化较大,将影响抛光后的表面质量。为此引入面积重叠率这一概念,以量化分析去除区域的接触面积变化情况,同时提出一种变间距的螺旋线轨迹规划方法,该方法可确保加工轨迹产生的去除区域均匀一致。结果分别采用2种螺旋线轨迹规划方法对同一初始表面（面形误差为峰谷值E（pv）=9.04μm,均方根值E（rms）=0.6228μm）进行仿真加工,采用变间距螺旋
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