【摘 要】
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采用磁控溅射方法，成功地在微颗粒表面沉积了金属铜膜和金属镍膜．利用光学显微镜（OM）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、能谱仪（EDS）、多功能扫描探针显微镜（SPM）、电感耦合等离子体发射
【机 构】
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北京航空航天大学航空科学与工程学院,北京有色金属研究总院,国家纳米技术产业化基地
【基金项目】
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航空基金资助项目(05H51046);北京市教育委员会共建项目建设计划资助项目(SYS100060413)
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采用磁控溅射方法，成功地在微颗粒表面沉积了金属铜膜和金属镍膜．利用光学显微镜（OM）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、能谱仪（EDS）、多功能扫描探针显微镜（SPM）、电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP—AES）和光电子能谱仪（XPS）等测试仪器对其表面形貌、膜厚和组份进行了表征．重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响，并用X射线衍射仪（XRD）对其进行了表征．结果表明，溅射镀膜时，通过控制微颗粒的运动方式，可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜．溅射时间越长或溅射功率越大或装载量
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