Silicon Valley Group与NASA合作开发下一代微光刻技术

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【摘要】

：

SiliconValleyGroup与NASA合作开发了一代微光刻技术据有关资料报道，美国的SiliconValleyGroup与NASA的GoddardSpaceFrightCenter合作，共同开发了微细光刻术。今后，半导体工业中

【作者】

：

长风

【出处】

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微电子技术

【发表日期】

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1998年1期

【关键词】

：

微光刻技术合作开发下一代反射光学光刻术半导体工业开发成果共同开发有关资料

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SiliconValleyGroup与NASA合作开发了一代微光刻技术据有关资料报道，美国的SiliconValleyGroup与NASA的GoddardSpaceFrightCenter合作，共同开发了微细光刻术。今后，半导体工业中的反射光学可望得到发展。本次的共同开发成果是遵循TECHZO06会议中的JSRA条约而实现的。Silicon Valley Group与NASA合作开发下一代微光刻技术@长风

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