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采用射频磁控溅射技术，用六角氮化硼和石墨为溅射靶，以氩气（Ar）和氮气（N2）为工作气体，在Si（100）衬底上制备出硼碳氮（BCN）薄膜。利用傅里叶变换红外光谱（FTIR）考察了不同沉积参数（溅射功率为80～130W、衬底温度为300-500℃、沉积时间为1～4h）条件下制备的薄膜样品。实验结果表明，所制备薄膜均实现了原子级化合。并且沉积参数对BCN薄膜的生长和内应力有很大影响，适当改变沉积参数能有效释放BCN薄膜的内应力。在固定其他条件只改变一个沉积参数的情况下，得到制备具有较小内应力的硼碳氮薄膜的最