SnO2导电薄膜性能研究

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【摘要】

：

采用射频反应溅射法制备SnO2导电薄膜,用AFM、XRD、XPS研究了薄膜的结构与表面化学组成对导电性能的影响,同时分析了衬底温度对薄膜导电性能的影响.结果表明:采用射频反应溅

【作者】

：

王磊杜军毛昌辉杨志明熊玉华

【机构】

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北京有色金属研究总院能源与材料技术中心

【出处】

：

表面技术

【发表日期】

：

2005年5期

【关键词】

：

导电性能二氧化锡薄膜溅射衬底温度 Conductive property Tin oxide Thin film Sputtering S

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采用射频反应溅射法制备SnO2导电薄膜,用AFM、XRD、XPS研究了薄膜的结构与表面化学组成对导电性能的影响,同时分析了衬底温度对薄膜导电性能的影响.结果表明:采用射频反应溅射制备的SnO2薄膜是具有(211)择优取向的多晶结构氧空位导电的n型半导体,衬底温度对于SnO2薄膜的微观结构和表面组成影响巨大,在低温衬底下制备的SnO2薄膜具有最佳的导电性能.

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