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高分辨率独立光掩模相位测试系统Phame能够对193纳米的光掩模进行测试。这套系统用于测量和分析高端相移掩膜版的实际相移表现。它使用户能够直接测试那些被曝光在硅片上的器件所对应掩膜版的图形表现。系统可以获得诸如3-D掩膜版效应、衍射等方面“真实的掩膜版表现”。
光掩模相位测试设备
【摘 要】
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高分辨率独立光掩模相位测试系统Phame能够对193纳米的光掩模进行测试。这套系统用于测量和分析高端相移掩膜版的实际相移表现。它使用户能够直接测试那些被曝光在硅片上的器
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2008年1期
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