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新一代CMP设备及其对IC器件的影响
新一代CMP设备及其对IC器件的影响
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:neverer123
【摘 要】
:
概述了为IC生产中绝缘体上硅(SOI)、硅/多晶硅、浅沟槽隔离(STI)、氧化物(PMD和ILD)、钨(W)、铜(Cu)和铝(Al)等不同化学机械抛光(CMP)用途开发的CMP设备的进展,讨论了新一代C
【作 者】
:
Raymond R.Jin
万力
【机 构】
:
AppliedMaterials公司
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2003年2期
【关键词】
:
化学机械抛光
集成电路
CMP设备
IC
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概述了为IC生产中绝缘体上硅(SOI)、硅/多晶硅、浅沟槽隔离(STI)、氧化物(PMD和ILD)、钨(W)、铜(Cu)和铝(Al)等不同化学机械抛光(CMP)用途开发的CMP设备的进展,讨论了新一代CMP设备(MIRRARCMP)对IC器件生产的影响及其特性.
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