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包硬化(PC ) 在五分钱库 superalloywas 上准备的 NiAl 阶段由 X 光检查光电子光谱学(XPS ) 和正电子歼灭技术调查了(轻拍) 。焦点在从 Ni (艾尔) 2p 山峰的底层在束缚能和在 asuperalloy 形成的 NiAl 阶段的空缺集中的 alloying 的稳固的答案的效果上。结果证明在 asuperalloy 种的 NiAl 阶段的 Ni 2p 山峰的束缚能被多达 1,09 eV 被多达 0.55 eV 与形成的 NiAl 阶段比较向更高的精力和艾尔 2p 山峰的