【摘 要】
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极紫外（EUV）光刻机是推动集成电路向先进技术节点发展的核心装备，已应用于7 nm及以下技术节点芯片的量产。高成像质量是EUV光刻机应用于芯片量产的基础。作为成像系统的重要组成部分，掩模是影响EUV光刻成像质量的重要因素。EUV掩模的制造过程中会产生以多层膜缺陷为代表的掩模缺陷，显著降低光刻成像质量。对EUV掩模缺陷的位置、尺寸和形貌等进行准确检测，并根据检测结果进行缺陷补偿是确保光刻成像质量的重
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室
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极紫外（EUV）光刻机是推动集成电路向先进技术节点发展的核心装备，已应用于7 nm及以下技术节点芯片的量产。高成像质量是EUV光刻机应用于芯片量产的基础。作为成像系统的重要组成部分，掩模是影响EUV光刻成像质量的重要因素。EUV掩模的制造过程中会产生以多层膜缺陷为代表的掩模缺陷，显著降低光刻成像质量。对EUV掩模缺陷的位置、尺寸和形貌等进行准确检测，并根据检测结果进行缺陷补偿是确保光刻成像质量的重要手段。为了有效补偿掩模缺陷对光刻成像质量的影响，需要建立快速准确的含缺陷掩模模型。本文结合本团队在掩模缺陷检测和补偿技术领域的研究工作，介绍了典型的含缺陷掩模仿真方法，总结了现有掩模缺陷检测技术，介绍了掩模缺陷补偿技术的研究进展。
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本文以“十四五”时期推动医疗保障高质量发展为背景，以青岛市一家医保定点医疗机构（医院）为研究案例，分析当前医保基金紧缺下如何实现医保高质量发展。本文从依托信息化建立严密医保监管体系和合理高效使用医保基金两个角度出发，具体提出四项助力医保高质量发展举措，即医保管理的标准化建设、医保控费的智能化建设、医保基金的运营分析、全成本核算。并从医院医保管理视角提出管理建议，以期医院在支付方式改革下实现持续发展
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