【摘 要】
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阴极电弧离子镀技术作为工业应用最多的真空镀膜技术之一,近年来得到了长足发展。但是仍存在一些技术问题尚未完全解决,如大颗粒污染、所沉积的薄膜残余应力大、不能实现低温
【机 构】
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中国科学院金属研究所材料表面工程研究部,深圳职业技术学院,天津职业技术师范大学天津市高速切削与精密加工重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金(51875555、51171197)
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阴极电弧离子镀技术作为工业应用最多的真空镀膜技术之一,近年来得到了长足发展。但是仍存在一些技术问题尚未完全解决,如大颗粒污染、所沉积的薄膜残余应力大、不能实现低温沉积等。另一方面,电弧离子镀的沉积效率仍有待提高,尽管与同属物理气相沉积(PVD)技术的磁控溅射相比,拥有较高的沉积速率,但对于沉积厚膜(厚度超过20μm甚至50μm)而言,其通常的沉积速率(一般在1~10μm/h内)较低,仍需要较长时间。针对这一问题,总结了不同沉积工艺参数对沉积速率的影响,综述了近年来电弧离子镀技术在提高沉积速率方面的研究进展
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