【摘 要】
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为了实现印刷电路板的短流程制作,利用飞秒激光超短脉冲和超高峰值功率的特性,对覆铜板进行了"选择性"和"无热影响"的刻蚀研究。利用正交试验法,研究了平均功率、扫描速度、
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(项目编号:51675360);江苏省自然科学基金资助项目(项目编号:BK20151194);江苏省精密与微细制造技术开放基金资助项目;宁波市产业技术创新重大科技专项资助项目(项目编号:2015B11036)
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为了实现印刷电路板的短流程制作,利用飞秒激光超短脉冲和超高峰值功率的特性,对覆铜板进行了"选择性"和"无热影响"的刻蚀研究。利用正交试验法,研究了平均功率、扫描速度、扫描次数、离焦量和线间距等参数对激光刻蚀质量的影响以及各参数的影响权重,并求得最佳工艺参数。采用优化的激光参数,可以在铜厚规格约为18μm的覆铜板上刻蚀出深度为17.863μm,粗糙度为0.565μm的底面光滑,侧边平直且无热影响区的良好窗口,实现表层铜完全刻蚀,并保证环氧树脂基底的完整性。
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