【摘 要】
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对铜(Cu)互连系统使用低k值材料时,应解决的许多相关问题不仅有技术问题,而且有所有权成本(CoO)?质量合格(CoC)问题。从蚀刻和灰化(去除)工艺的角度报道了几种问题的解决方法
【机 构】
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Tokyo Electron AT Ltd,Tokyo Electron AT Ltd,Toko Electron Ltd,Tokyo Electron AT Ltd Yamanashi407-851
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对铜(Cu)互连系统使用低k值材料时,应解决的许多相关问题不仅有技术问题,而且有所有权成本(CoO)?质量合格(CoC)问题。从蚀刻和灰化(去除)工艺的角度报道了几种问题的解决方法。对蚀刻工艺,将在此推荐Via1st的Duo248TM方法(Duo248TM是Honeywell公司的材料,包含US专利#6,268,457)。对于灰化工艺,建议混合灰化工艺(HybridAshing),即蚀刻和灰化工艺在同一反应室连续进行。这些方法的目标将是65nm以下工艺。
Many of the related problems to be solved when using low-k materials for Cu interconnect systems are not only technical but also CoO and CoC issues. Several solutions to the problems were reported from the perspective of etching and ashing (removal) processes. For the etching process, Via1st’s Duo248 ™ method will be recommended here (Duo248 ™ is a Honeywell material containing US Patent # 6,268,457). For the ashing process, it is suggested that the hybrid ashing process, ie the etching and ashing process, be carried out continuously in the same reaction chamber. The goal of these methods will be 65nm process.
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